总部位于剑桥大学的半导体显示技术公司Porotech近日宣布，将与力积电合作，生产新一代200mm GaN-on-Silicon Microled显示屏，并实现商业化。
该公司由来自剑桥大学的团队创办，致力于氮化镓（GaN）以及硅基Microled技术。官方表示，此次合作将加速生产用于终端显示的高亮度、高像素密度、低成本MicroLED。力积电在半导体前端晶圆制造代工方面拥有专业技术，而Porotech在氮化镓、MicroLED-on-Silicon（简称uLEDoS）、动态像素调整技术（Dynamic Pixel Tuning，DPT）、GaN-on-Silicon平台等方面拥有世界领先的先进技术，双方合作将确保MicroLED显示屏商业化。
力积电执行副总裁朱宪国表示，与Porotech的战略联盟是MicroLED为世界带来巨大改变的关键一步，很高兴能够整合来自不同领域的技术。
据了解，Porotech专门开发了InGaN红色MicroLED，使得RGB三色材料保持一致，解决了以往MicroLED显示红光的难题，提高了热稳定性。该公司独有的InGaN无机材料，与InGaN绿光和蓝光搭配使用，可以形成颜色同步，确保成像的色彩准确性。